碳化硼研磨后蓝宝石晶体的亚表面损伤

• 作者: 唐慧丽 汪家林 谢春
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石晶体 亚表面损伤 游离碳化硼磨料 KOH化学腐蚀 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 3070-3078
• 页数: 9页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 4682字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20172512.3070

摘要

介绍了蓝宝石材料的亚表面损伤形成机制.考虑碳化硼磨料可产生较小亚表面损伤的优点,本文基于游离磨料研磨方式,研究了不同粒度碳化硼磨料研磨后蓝宝石晶体的亚表面损伤.利用KOH化学腐蚀处理技术,对研磨后的样品进行了刻蚀;通过特定的腐蚀坑图像间接反映了蓝宝石晶体的亚表面损伤形貌特征,获得了W20、W10和W5碳化硼磨料产生的亚表面损伤深度,得到了在不同刻蚀时间下蓝宝石亚表面损伤形貌、表面粗糙度和刻蚀速率.研究结果显示:游离碳化硼磨料研磨造成的蓝宝石晶体的亚表面损伤密度相当显著,但损伤深度并不大,其随磨料粒度的增大而增大,W20、W10和W5粒度的磨料研磨后产生的亚表面损伤深度分别为7.4,4.1和2.9μm,约为磨料粒度的1/2.得到的结果表明采用碳化硼磨料研磨有利于获得低亚表面损伤的蓝宝石晶片,而采用由大到小的磨料逐次研磨可以快速获得低亚表面损伤的蓝宝石晶片.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢春	同济大学中德工程学院	10	74	6.0	8.0
2	唐慧丽	同济大学物理科学与工程学院	5	6	1.0	2.0
3	汪家林	同济大学机械与能源工程学院	1	6	1.0	1.0