直流/射频耦合反应磁控溅射法类金刚石薄膜的制备与分析?

• 作者: 何智兵 刘磊 张玲 易勇 杜凯 王涛
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 耦合反应磁控溅射 类金刚石薄膜 工作气压
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺?技术
• 页码范围: 1209-1214
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 字数: 5787字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.038

摘要

采用直流/射频耦合反应磁控溅射法在Si(111)衬底上使用高纯石墨靶材制备出了类金刚石(DLC)薄膜.分别采用表面轮廓仪、激光拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、扫描电镜、白光干涉仪、纳米压痕对薄膜的性能进行了表征和分析.研究了沉积过程中不同工作气压(0．35~1．25 Pa)对薄膜沉积速率、结构、表面形貌及力学性能的影响.研究表明，随着工作气压的升高，薄膜的沉积速率逐渐减小，薄膜中 sp3含量先升高后降低；薄膜表面粗糙度随工作气压的升高呈现出先降低后升高的趋势，且在工作气压为1．0 Pa时达到最小值6．68 nm；随着工作气压的升高，薄膜的显微硬度与体弹性模量先升高后降低，且在工作气压为1．0 Pa时分别达到最大值11．6和120．7 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张玲	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	39	88	5.0	7.0
2	易勇	西南科技大学材料科学与工程学院	53	162	6.0	9.0
3	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0
4	王涛	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	33	67	5.0	6.0
5	刘磊	西南科技大学材料科学与工程学院	4	6	2.0	2.0