射频磁控溅射法制备类金刚石薄膜的研究

• 作者: 刘正堂 李阳平 田浩 赵海龙 闫锋
• 来源期刊: 机械科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 类金刚石薄膜 增透
• 年，卷（期）: 2007,（10）
• 页码范围: 1277-1280
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2812字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-8728.2007.10.011

摘要

采用射频磁控溅射法,纯Ar溅射石墨靶,制备出了类金刚石薄膜,并对薄膜沉积速率随各工艺参数的变化规律、薄膜结构以及光学性能进行了系统的研究.结果表明,沉积速率随射频功率、CH4流量和溅射气压的增大而增大;随温度的增大呈现先增大后小的趋势.结构分析发现,所制备的DLC薄膜是由sp2键镶嵌在sp3键基体中构成的.在3 μm～5 μm波段对Si衬底有明显的增透效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李阳平	西北工业大学材料学院	25	201	8.0	13.0
2	刘正堂	西北工业大学材料学院	120	749	14.0	21.0
3	赵海龙	西北工业大学材料学院	7	62	4.0	7.0
4	闫锋	西北工业大学材料学院	12	46	4.0	6.0
5	田浩	西北工业大学材料学院	8	19	2.0	4.0