硅外延表面雾缺陷的研究

• 作者: 底亚雷 康薇 颜晓飞
• 来源期刊: 中国科技投资
• 关键词: 外延片 表面缺陷 云雾状缺陷
• 年，卷（期）: 2017,（15）
• 所属期刊栏目: 设计与应用
• 页码范围: 299
• 页数: 1页
• 字数: 2132字
• 语种: 中文

摘要

通常情况下,在外延的时候经常会出现较多的外延缺陷,主要包含大亮点、滑移等.这些存在的不足之处仅仅通过清洗的方式是无法彻底清理干净的.本文依据雾状缺陷进行了深入探讨,并对雾状缺陷产生的危害进行了分析,从而提出合理化建议,供以借鉴.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	康薇		3	0	0.0	0.0
2	底亚雷		3	0	0.0	0.0
3	颜晓飞		3	0	0.0	0.0