退火处理对磁控溅射制备LaCoO3薄膜性能的影响

• 作者: 包秀丽 张亮 蔡云萍
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: LaCoO3薄膜 磁控溅射 退火温度 热电特性
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 团簇与纳米结构
• 页码范围: 958-962
• 页数: 5页
• 分类号: O469
• 字数: 2975字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2018.06.012

摘要

采用磁控溅射法在硅衬底上制备了LaCoO3(LCO)薄膜,研究了退火温度对LCO薄膜组织结构、表面形貌及热电特性的影响,并利用X射线衍射仪、原子力显微镜(AFM)、激光导热仪等对LCO薄膜的晶体结构、表面形貌、热扩散系数等进行测量与表征.结果表明:退火温度对LCO薄膜的结晶度、晶粒尺寸和薄膜表面形貌都有较大影响;退火前后LCO薄膜的热扩散系数都随温度的升高而减小,且变化速率逐渐减缓;LCO薄膜的热扩散系数随退化温度的升高先增大后减小.LCO薄膜经过700℃退火后得到最佳的综合性能,其薄膜表面致密、平整,结晶质量最好,热扩散系数最小,热电性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	包秀丽	长江师范学院凝聚态物理研究所	18	29	4.0	5.0
2	张亮	厦门大学物理科学与技术学院	14	46	4.0	6.0
3	蔡云萍	厦门大学物理科学与技术学院	1	1	1.0	1.0