基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
本文基于形变势理论构建(001)面双轴应变Ge材料的能带结构模型.计算结果表明(001)面双轴应变可以将Ge的能带从以 L能谷为导带底的间接带半导体调控到以 Δ4能谷为导带底的间接带半导体或者以 Г能谷为导带底的直接带半导体.同时室温下Ge的带隙与应变的关系可用四段函数来表示:当压应变将Ge材料调控为以 Г能谷为导带底的间接带半导体后,每增加1% 的压应变,禁带宽度将线性减小约78.63meV ;当张应变将Ge材料调控为直接带半导体后,张应变每增加1%,禁带宽度将线性减小约177.98meV ;应变介于-2.06% 和1.77% 时,Ge将被调控为以L能谷为导带底的间接带半导体,禁带宽度随着压应变每增加1% 而增加11.66meV ,随着张应变每增加1% 而线性减小约88.29meV .该量化结果可为研究和设计双轴应变Ge材料及其器件提供理论指导和实验依据.
推荐文章
非对称双轴张应变对锗能带的影响
应变Ge
双轴张应变
能带结构
第一性原理
(001)面任意方向单轴应变硅材料能带结构
单轴应变硅
K·P法
能带结构
应变锗的导带结构计算与分析
应变锗
导带能级结构
单轴与双轴
应变张量
单轴应变锗带隙特性和电子有效质量计算
30k·p方法
单轴应变锗
能带结构
电子有效质量
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 (001)面双轴应变锗材料的能带调控
来源期刊 材料科学与工程学报 学科 工学
关键词 应变 退简并 能带调控
年,卷(期) 2018,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 352-357,369
页数 7页 分类号 TB321|O469
字数 5256字 语种 中文
DOI 10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2018.03.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 黄巍 厦门大学物理科学与技术学院 11 9 2.0 2.0
2 黄诗浩 福建工程学院信息科学与工程学院 4 3 1.0 1.0
3 孙钦钦 福建工程学院软件学院 3 3 1.0 1.0
4 谢文明 福建工程学院信息科学与工程学院 8 2 1.0 1.0
5 汪涵聪 福建工程学院信息科学与工程学院 3 0 0.0 0.0
6 林抒毅 福建工程学院信息科学与工程学院 8 6 2.0 2.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (17)
共引文献  (1)
参考文献  (17)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1970(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1971(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1986(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1989(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1993(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2002(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2004(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2005(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2006(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2007(5)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(4)
2008(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2009(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2010(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2011(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2012(6)
  • 参考文献(6)
  • 二级参考文献(0)
2013(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2014(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2015(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2018(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
应变
退简并
能带调控
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料科学与工程学报
双月刊
1673-2812
33-1307/T
大16开
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
1983
chi
出版文献量(篇)
4378
总下载数(次)
9
总被引数(次)
42484
论文1v1指导