一种激光刻蚀降低二次电子产额的方法

• 作者: 叶鸣 王丹 贺永宁
• 来源期刊: 空间电子技术
• 学科: 航空航天
• 关键词: 微放电 激光加工 二次电子产额 微米结构
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 微波技术
• 页码范围: 1-7
• 页数: 7页
• 分类号: V443
• 字数: 3247字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7135.2018.03.001

摘要

空间大功率微波器件受空间环境因素的影响,易于发生微放电效应导致器件性能退化甚至失效.二次电子产额(Secondary Electron Yield,SEY)大于1是诱导空间材料表面微放电效应发生的根本条件之一.在材料表面制备微纳结构能有效抑制SEY,从而降低器件在空间环境中发生微放电的风险.激光加工可操作性强、灵活度高,可用于构建材料表面微米结构.本文使用1064 nm红外激光器在铝合金镀银样品表面制备单元尺寸为百微米的圆孔阵列和沟槽阵列,使用磁控溅射在样品表面分别覆盖200 nm银和72 nm铁氧体.SEY测试结果表明,银表面δmax(SEY峰值)从1.932降至0.868,铁氧体表面δmax从2.672降至1.312.实验证明激光加工制备的微米结构能大幅降低材料表面SEY,从而有效降低材料表面发生微放电的风险.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丹	西安交通大学微电子学院	59	285	6.0	16.0
2	贺永宁	西安交通大学微电子学院	58	265	9.0	12.0
3	叶鸣	西安交通大学微电子学院	22	99	6.0	9.0