基于Fluent的半导体湿法腐蚀过程中的废气排放流场研究

• 作者: 夏楠君 李燕玲 王勇威 王文丽 郭立刚 黄鑫亮
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 湿法腐蚀清洗设备 流场分析 硅腐蚀
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 页码范围: 31-36
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 2107字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2018.05.009

摘要

湿法腐蚀清洗设备湿区对洁净度有严格要求,流场分布对其影响很大,通过Fluent对湿区的流场进行分析,建立流场数值模型和几何模型并对流场进行数值计算;改变槽体化学槽气体溢出的速度和排风出口的压强分析流场特性; 计算3种排风出口几何模型并分析对湿区流场的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王文丽	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	9	2.0	3.0
2	郭立刚	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	0	0.0	0.0
3	夏楠君	中国电子科技集团公司第四十五研究所	10	11	2.0	3.0
4	李燕玲	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	10	2.0	3.0
5	黄鑫亮	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	2	1.0	1.0
6	王勇威	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	0	0.0	0.0