全息光刻制备LC-DFB及光栅刻蚀优化

• 作者: 张宇 李欢 杨成奥 柴小力 牛智川 王金良 谢圣文 黄书山
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 镓锑基 侧向耦合分布反馈 LC-DFB 全息光刻 二阶布拉格光栅
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 页码范围: 140-143,153
• 页数: 5页
• 分类号: O43
• 字数: 2606字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11972/j.issn.1001-9014.2018.02.003

摘要

成功制备出室温激射波长为2 μm的GaSb基侧向耦合分布反馈量子阱激光器.采用全息曝光及电感耦合等离子体刻蚀技术制备二阶布拉格光栅.优化了光栅制备的刻蚀条件,并获得室温2 μm单纵模激射.激光器输出光功率超过5 mW,最大边模抑制比达到24 dB.