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摘要:
采用磁控溅射法制备了底栅反交叠刻蚀阻挡型(ES)金属氧化物薄膜晶体管(α-IGZO TFT),测试了TFT电流-电压特性曲线.根据TFT的一级近似模型,结合实验数据提出了TFT电特性参数提取方法.在TFT的线性区和饱和区采用线性拟合提取了TFT的场效应迁移率和阈值电压,定义了TFT的开态电流和关态电流,在TFT的亚阈值区分别采用线性拟合和一阶导数的方法提取了TFT的亚阈值摆幅.通过筛选测试条件和数据拟合范围,得到α-IGZO TFT线性区和饱和区场效应迁移率和阈值电压分别为6.27 cm2/V·s和7.7 V;7.24 cm2/V·s和4.3V,α-IGZO TFT的开关比和亚阈值摆幅分别为109和272 mV/dec.
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文献信息
篇名 金属氧化物薄膜晶体管电特性参数的提取
来源期刊 实验室研究与探索 学科 工学
关键词 金属氧化物薄膜晶体管 电特性参数 刻蚀阻挡型
年,卷(期) 2018,(11) 所属期刊栏目 实验技术
研究方向 页码范围 42-44,48
页数 4页 分类号 TN321+.5|G482
字数 1899字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-7167.2018.11.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈文彬 电子科技大学光电信息学院 45 202 8.0 11.0
2 何永阳 电子科技大学光电信息学院 1 0 0.0 0.0
3 陈赞 电子科技大学光电信息学院 1 0 0.0 0.0
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金属氧化物薄膜晶体管
电特性参数
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大16开
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1982
chi
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