硼掺杂金刚石薄膜电极的制备及电化学行为研究

• 作者: 华萌茁 吕江维 崔闻宇 王鑫 贾文婷 赵有成 陆勤怡 魏亚青
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 硼掺杂金刚石 循环伏安 铁氰化钾/亚铁氰化钾 电化学 氧化还原反应
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 158-161
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

硼掺杂金刚石薄膜(BDD)电极具有良好的电化学性能,是一种理想的电极材料.采用扫描电子显微镜、X射线衍射、拉曼光谱对制得的BDD电极的结构进行了表征.电极表面薄膜生长致密,晶体生长取向以(111)晶面为主,生长速率为2.8μm/h,晶格常数为3.5738A.利用循环伏安法(CV)研究了BDD电极在铁氰化钾/亚铁氰化钾体系中氧化还原反应的可逆性和动力学特征.研究结果表明,在铁氰化钾/亚铁氰化钾的浓度为20mmol/L条件下,BDD电极的氧化还原峰电势差达到205.75mV,在溶液中电极的氧化还原反应属于准可逆反应,氧化峰电流与反应物浓度成正比,电极过程动力学是受扩散控制为主.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王鑫		92	214	8.0	8.0
2	吕江维		28	64	4.0	7.0
3	崔闻宇		18	12	2.0	2.0
4	魏亚青		8	0	0.0	0.0
5	华萌茁		4	0	0.0	0.0
6	贾文婷		4	1	1.0	1.0
7	赵有成		3	0	0.0	0.0
8	陆勤怡		3	0	0.0	0.0