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摘要:
研究了自主研发的两种磁控溅射靶,分别用于溅射非强磁性材料的普通靶和溅射强磁性材料的强磁靶.溅射靶工作时,靶阴极表面的磁场约束带电粒子并提高氩离子体密氩离子轰击靶材而实现溅射镀膜.通过模拟溅射靶的磁场强度分布,优化了磁极形状和高度.溅射靶可兼备直流溅射和射频溅射功能,射频放电的测试结果显示,两种溅射靶的成膜溅射和功率成正比,普通靶的靶材利用率相比国际上同类提高了6%~10%,强磁靶对厚度为2 mm的铁靶材仍可有效溅射镀膜.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 基于磁控溅射靶的磁场分布优化
来源期刊 大连交通大学学报 学科
关键词 磁控溅射 辉光放电 磁场强度分布 薄膜
年,卷(期) 2019,(4) 所属期刊栏目 电气信息工程
研究方向 页码范围 108-111
页数 4页 分类号
字数 3173字 语种 中文
DOI 10.13291/j.cnki.djdxac.2019.04.022
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭方准 大连交通大学机械工程学院 22 70 5.0 7.0
2 乌云额尔德尼 大连交通大学机械工程学院 2 0 0.0 0.0
3 臧侃 大连交通大学机械工程学院 13 35 5.0 5.0
4 于荣环 大连交通大学机械工程学院 2 0 0.0 0.0
5 石晓倩 大连交通大学机械工程学院 2 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
辉光放电
磁场强度分布
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
大连交通大学学报
双月刊
1673-9590
21-1550/U
大16开
大连市沙河口区黄河路794号
1980
chi
出版文献量(篇)
3012
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12659
论文1v1指导