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磁控溅射钛膜GDOES分析方法
磁控溅射钛膜GDOES分析方法
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摘要：
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磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响
Ti膜
磁控溅射
工作压强
均方根粗糙度
磁控溅射沉积含He纳米晶钛膜制备
磁控溅射
氦含量
氦钛膜
平均晶粒尺寸
磁控溅射工艺参数对钛钨合金膜电阻温度特性的影响
钛钨合金膜
磁控溅射
电阻温度系数
工艺参数
磁控溅射技术制备二氧化钛薄膜研究进展
二氧化钛薄膜
工艺参数
磁控溅射
组织
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主办单位：
中国电子学会
出版周期：
半月刊
ISSN：
1003-0522
CN：
11-2086/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市
邮发代号：
2-892
创刊时间：
1979
语种：
chi
出版文献量（篇）
36164
总下载数（次）
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