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摘要:
采用射频等离子体辅助分子束外延法制备高品质ZnO单晶薄膜,利用离子注入技术向ZnO单晶薄膜中注入不同注量的Sb离子,并对样品进行了氧气氛退火处理.利用高分辨双晶X射线衍射技术、RBS背散射/沟道技术以及低温光致发光光谱测试对注入Sb离子后样品的结构和光学性能进行了表征,结果表明:低注量下注入离子对ZnO薄膜结晶品质影响不大,带边发光稍有减弱;当掺杂注量达到1015 cm-2时,离子注入产生了一定量的晶格损伤,同时带边发光被完全抑制.氧气氛下退火后ZnO薄膜发光恢复,带边发光峰主要为受主能级和锌空位发光,表明退火后在ZnO单晶薄膜中形成了(SbZn-2VZn)受主缺陷复合体,有望通过Sb掺杂实现ZnO的p型转化.
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文献信息
篇名 Sb掺杂ZnO单晶薄膜的结构和光学性能研究
来源期刊 北京师范大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 离子注入技术 ZnO薄膜 晶体结构 光致发光特性
年,卷(期) 2019,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 336-340
页数 5页 分类号 O484|TN304
字数 3468字 语种 中文
DOI 10.16360/j.cnki.jbnuns.2019.03.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 原苗苗 北京师范大学核科学与技术学院 1 0 0.0 0.0
2 杨娅 北京师范大学核科学与技术学院 2 30 1.0 2.0
3 英敏菊 北京师范大学核科学与技术学院 6 3 1.0 1.0
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北京师范大学学报(自然科学版)
双月刊
0476-0301
11-1991/N
大16开
北京新外大街19号
82-406
1956
chi
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