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磁控溅射制备纳米晶GZO/CdS双层膜及GZO/CdS/p-Si异质结光伏器件的研究
磁控溅射制备纳米晶GZO/CdS双层膜及GZO/CdS/p-Si异质结光伏器件的研究
作者:
何波
宁欢颇
张晓东
徐静
沈晓明
王春瑞
莫观孔
邢怀中
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米晶GZO/CdS双层膜
磁控溅射
异质结
电流-电压 (Ⅰ-Ⅴ) 特性
摘要:
采用磁控溅射制备Ga掺杂ZnO (GZO) /CdS双层膜在p型晶硅衬底上以形成GZO/CdS/p-Si异质结器件.纳米晶GZO/CdS双层膜的微结构、光学及电学特性, 通过XRD、SEM、XPS、紫外-可见光分光光度计和霍尔效应测试系统表征.GZO/CdS/p-Si异质结J-V曲线显示良好的整流特性.在±3 V时, 整流比IF/IR (IF和IR分别表示正向和反向电流) 已达到21.结果表明纳米晶GZO/CdS/p-Si异质结具有好的二极管特性, 在反向偏压下获得高光电流密度.纳米晶GZO/CdS/p-Si异质结显示明显的光伏特性.由于CdS晶格常数在GZO和晶Si之间, 它能作为一个介于GZO和晶Si之间的缓冲层, 能有效地减少GZO和p-Si之间的界面态.因此, 我们获得了GZO/CdS/p-Si异质结明显光伏特性.
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文献信息
篇名
磁控溅射制备纳米晶GZO/CdS双层膜及GZO/CdS/p-Si异质结光伏器件的研究
来源期刊
红外与毫米波学报
学科
物理学
关键词
纳米晶GZO/CdS双层膜
磁控溅射
异质结
电流-电压 (Ⅰ-Ⅴ) 特性
年,卷(期)
2019,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
44-49
页数
6页
分类号
O4
字数
707字
语种
中文
DOI
10.11972/j.issn.1001-9014.2019.01.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
徐静
上海大学分析测试中心
25
313
8.0
17.0
2
邢怀中
东华大学应用物理系
14
45
5.0
5.0
3
宁欢颇
东华大学应用物理系
1
1
1.0
1.0
4
王春瑞
东华大学应用物理系
2
3
1.0
1.0
5
张晓东
东华大学应用物理系
1
1
1.0
1.0
6
莫观孔
广西大学资源环境与材料学院
1
1
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
(1)
参考文献
(16)
节点文献
引证文献
(1)
同被引文献
(4)
二级引证文献
(0)
1997(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1999(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2000(1)
参考文献(0)
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2001(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2005(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
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参考文献(0)
二级参考文献(6)
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参考文献(0)
二级参考文献(1)
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参考文献(2)
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参考文献(0)
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参考文献(2)
二级参考文献(2)
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参考文献(3)
二级参考文献(0)
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参考文献(4)
二级参考文献(0)
2019(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2020(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
纳米晶GZO/CdS双层膜
磁控溅射
异质结
电流-电压 (Ⅰ-Ⅴ) 特性
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研究去脉
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期刊影响力
红外与毫米波学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海技术物理所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-9014
CN:
31-1577/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市玉田路500号
邮发代号:
4-335
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
2620
总下载数(次)
3
总被引数(次)
28003
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