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摘要:
根据手工抛光多方向性的特点,提出一种三维类摆线抛光轨迹.为解决三维类摆线相交处抛光材料去除较多的问题,依据材料去除深度模型和轨迹相交的特点,确定摆线参数的控制范围,在参数控制范围内进行基于均匀材料去除的区域进给速度优化,把去除深度相近的轨迹点视为一个区域,分区域控制抛光的进给速度,最终实现各区域内的材料去除深度基本相同.仿真和机器人抛光实验结果表明,分区域规划进给速度减少了轨迹相交处的材料去除,使得工件表面的去除深度总体上趋于一致,解决了因轨迹重叠导致的表面材料去除不均匀问题,提高了抛光件表面质量.
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文献信息
篇名 面向曲面的机器人摆线抛光轨迹及速度优化
来源期刊 现代制造工程 学科 工学
关键词 进给速度优化 轨迹控制 材料去除均匀
年,卷(期) 2019,(10) 所属期刊栏目 机器人技术
研究方向 页码范围 52-57,109
页数 7页 分类号 TG580.692|TP242.2
字数 4592字 语种 中文
DOI 10.16731/j.cnki.1671-3133.2019.10.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王清辉 华南理工大学机械与汽车工程学院 34 227 8.0 14.0
2 许晨旸 华南理工大学机械与汽车工程学院 8 18 3.0 4.0
3 周雪峰 10 32 4.0 5.0
4 谢柳杰 华南理工大学机械与汽车工程学院 3 5 1.0 2.0
5 陈锐奇 华南理工大学机械与汽车工程学院 4 13 2.0 3.0
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进给速度优化
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现代制造工程
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1671-3133
11-4659/TH
大16开
北京市西城区核桃园西街36号301A
2-431
1978
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