集束型多层纳米薄膜沉积设备的研制

• 作者: 兰丽丽 冯嘉恒 刘涛 卢维尔 夏洋 屈芙蓉 明帅强 杨胜 陶晓俊
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积 磁控溅射 薄膜制备 集束型设备
• 年，卷（期）: 2020,（11）
• 页码范围: 1096-1102
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.8
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2020.11.18

摘要

运用模块化的设计构想,将等离子体增强原子层沉积工艺单元、热型原子层沉积工艺单元,直流磁控溅射单元和射频磁控溅射工艺单元进行高度优化集成,研制了集束型多层纳米薄膜沉积设备.设备创新采用真空旋转传输平台,替代了传统集成设备的机械手结构,实现了样品在高真空(5×10-5 Pa)中传输,而且传输速度快(2～3 s),有效地减少污染,保证样品表面物性的稳定.设备可在全真空的环境下,实现多层纳米薄膜的制备,同时可以对薄膜生长实现原子层精度的控制.设备的磁控溅射工艺平台可以安装金属掩膜板,直接制备图形薄膜.另外设备具有非常灵活的扩展性,针对薄膜工艺需求的不同,可以集成其他的薄膜制备工艺单元.