基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用直流反应磁控溅射与高温退火工艺大批量制备了膜厚为200 nm、400 nm及800 nm的2英寸蓝宝石基氮化铝模板,并对高温退火前后不同膜厚模板使用各种表征手段进行对比分析.结果 表明:采用磁控溅射制备膜厚为200 nm的模板经高温退火后晶体质量得到显著提升,退火前后整片(0002)面和(10-12)面高分辨率X射线衍射摇摆曲线半高宽分别从632 ~ 658 arcsec和2 580 ~2 734 arcsec下降至70.9 ~ 84.5 arcsec和273.6 ~ 341.6 arcsec;模板5 μm×5μm区域内均方根粗糙度小于1 nm;紫外波段260 ~280 nm吸收系数为14 ~20 cm-1;高温退火前后拉曼图谱E2(high)声子模特征峰半高宽从13.5 cm-1降至5.2 cm-1,峰位从656.6 cm-1移动至657.6 cm-1,表明氮化铝模板内的拉应力经高温退火后得到释放,接近无应力状态.
推荐文章
退火对直流磁控溅射铬膜附着性的影响
退火
直流磁控溅射
铬膜
附着性
中频脉冲磁控溅射沉积氮化铝薄膜及性能研究
氮化铝
形貌
折射率
磁控溅射
蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究
磁控反应溅射
蓝宝石
氮化硅薄膜
性能
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响
来源期刊 人工晶体学报 学科 工学
关键词 氮化铝 磁控溅射 高温退火 结晶质量 蓝宝石基 模板
年,卷(期) 2020,(8) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1541-1547
页数 7页 分类号 TN304
字数 语种 中文
DOI
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (13)
共引文献  (1)
参考文献  (22)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1976(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1998(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2001(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2002(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2003(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2008(3)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(2)
2009(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2010(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2015(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2016(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2017(5)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(2)
2018(5)
  • 参考文献(4)
  • 二级参考文献(1)
2019(11)
  • 参考文献(10)
  • 二级参考文献(1)
2020(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
氮化铝
磁控溅射
高温退火
结晶质量
蓝宝石基
模板
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
论文1v1指导