等离子体刻蚀辅助绝缘衬底上生长石墨烯研究

• 作者: 彭东青 田博 蔡伟伟 陈鑫耀
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 石墨烯 等离子体刻蚀辅助化学气相沉积 绝缘衬底
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 100-103
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

石墨烯由于其优异的物理和化学性质,在材料和纳米器件等领域受到了极大的关注.但通过转移法转移的石墨烯在石墨烯基纳米器件上会引入杂质和缺陷,因此,直接在氧化硅上生长高质量的石墨烯成了一项迫切的需求.基于传统的热壁化学气相沉积(CVD)系统,设计了一种新的绝缘衬底生长系统,通过附加微波等离子体单元来提供额外的蚀刻和辅助效果,成为微波等离子体蚀刻和辅助CVD(MPEE-CVD).利用此系统,成功地实现了在氧化硅和其他绝缘衬底上直接生成可控尺寸的石墨烯薄膜,并通过拉曼光谱和扫描电子显微镜表征了晶体质量.该项工作为进一步改善基于石墨烯的场效应晶体管纳米器件的性能开辟了新的道路.同时,它为在绝缘衬底上直接生长其他二维材料提供了可能的指引.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭东青		12	21	3.0	4.0
2	陈鑫耀		5	1	1.0	1.0
3	田博		3	1	1.0	1.0
4	蔡伟伟		1	0	0.0	0.0