单晶硅晶格间距的测量技术进展及应用

• 作者: 李伟 施玉书 李琪 黄鹭 李适 高思田
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 晶格间距 X射线干涉仪 晶格比较仪 纳米计量
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 151-157,178
• 页数: 8页
• 分类号: O734|TB383
• 语种: 中文

摘要

单晶硅晶格间距是许多重要物理常数测量的基础.本文介绍了硅晶格间距测量技术的发展历程,包括X射线干涉仪直接测量和晶格比较仪间接测量两种方法,以及影响测量结果不确定度的关键因素.得益于晶格间距测量的进展,在纳米尺度,硅晶格间距被国际计量局(BIPM)批准成为新的米定义复现形式.最后介绍了硅晶格在计量学中的应用,以及基于硅晶格实现纳米几何量测量的溯源体系的研究趋势.