作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
为了查找影响MEMS(微机电系统)器件缺陷的关键因素,通过模拟键合硅片的加工工艺开展了实验,探索出一种MEMS用硅单晶的缺陷检验方法.结果表明这种检验方法可以提前判断硅单晶是否可用于MEMS体硅工艺,对工业化生产具有很好的指导借鉴作用.
推荐文章
一种模型模拟结果的统计检验方法
生态学模型
模拟精度
统计学检验
实用型硅单晶中氧、碳含量自动测量系统
硅中氧
碳含量
自动测量
傅里叶变换红外光谱
PVT法制备4英寸碳化硅单晶研究
4英寸
碳化硅
横向延展
计算机模拟
密码技术中一种随机数检验方法的设计与实现
随机序列
密码技术
线性复杂度
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 一种MEMS用硅单晶的缺陷检验方法
来源期刊 电子工业专用设备 学科
关键词 微机电系统 单晶缺陷 检验方法
年,卷(期) 2021,(2) 所属期刊栏目 测试•测量技术与设备
研究方向 页码范围 43-45
页数 3页 分类号 TN307
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2021.02.011
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (5)
共引文献  (16)
参考文献  (1)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1988(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2000(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2001(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2021(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
微机电系统
单晶缺陷
检验方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
论文1v1指导