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薄膜科学与技术
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主办单位：
南京电子器件研究所
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双月刊
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210016
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1. 短波段光学薄膜刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文对真空紫外－软Ｘ光短波段区域的多种极为重要的光学元件如高反射膜镜、光谱色散器件和光谱滤光片等作了较全面地介绍。除较详细的介绍了他们的制备技术外，对于他们光谱透射与反射性能的测量方法与结果...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文将有关流体力学与分子传质理论及化学反应动力结合起来，对于反应室为单面加热，温度场可调节的热ＣＶＤ系统进行了边界层理论分析，得到了流体的速度、温度及浓度分布。从硅烷的气相分解及有关基团的表...
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3. 亚微米硅外延生长特性研究刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文利用附面层模型，研究了亚性米Ｓｉ外延生长中，生长速率随时间的变化规律，分析不同不的硅源及不同的生长条件对其的影响。
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 用Ｈ２还原法制备了ＳｒＳ：Ｃｅ蓝色发光材料，研究了它的光谱特性，并用不同掺杂浓度比较了Ｈ２还原法和ＣＳ２还原法，得到了掺杂的浓度范围，研究了Ｈ２气氛下处理温度对器件发光的影响。制得了最高亮度...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文报导了利用射频溅射技术成功地获得具有一维周期结构的ａ－Ｓｉ／Ｍｏ多层膜。分析讨论了可控厚度多层膜的生长条件；利用Ｘ－ｒａｙ衍射、ＳＩＭＳ、ＳＥＭ、Ｒａｍａｎ等分析手段，对多层膜进行了结构...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文介绍一类新型的薄膜多晶硅材料及器件的制备方法－后续退火方法并对其研究现状进行评述。对制备过程中初始材料的沉积条件，后续退火条件、以及后氢化处理等诸多环节对薄膜多晶硅材料的性能的影响进行了...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 半导体薄膜材料是发展微电子技术的先导条件和制备微电子器件的物质基础，本文提出了五个重要转变，并以此为主线着重讨论和分析了半导体薄膜材料物理与工艺的发展过程、规律与特点。
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 以ＴＥＯＳ和水合硝酸铝为原料用溶胶－凝胶法制备复合溶胶，对制备条件进行了研究，并用上述溶胶在不锈钢基体上制备了ＳｉＯ２－Ａｌ２Ｏ３复合氧化物薄膜。结果表明，该薄膜在适当组成时具有良好的完整性...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 以三氯化铁与叔丁醇的反应产物为先驱物，用溶胶－凝胶法制备了透明均匀的Ｆｅ２Ｏ３薄膜。利用ＦＴＩＲ、ＸＲＤ、紫外－可见光谱分别对先驱物、凝胶和薄膜进行了分析。结果表明，采用上述先驱物通过溶胶－...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 用四靶双离子束溅射仪一体化制备软Ｘ光衍射色散元件，宽束平行离子源刻蚀光栅，宽束聚焦离子源镀制软Ｘ光多层膜，经ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＦＣ数字化图像处理和效率测试等测试手段分析，结果表明所制备器件具有...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文阐述了用计算机（ＩＢＭ－ＰＣ机）对微型心音听诊器薄膜混合电路版图进行辅助设计的方法，介绍了电极，电容器，电阻器图形的绘制原理和特征，以及图形的删除、移动、存贮和打印的技巧。
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12. 金刚石膜热学性质研究刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 本文采用电子增强化学气相沉积（ＥＡＣＶＤ）方法，以甲烷和氢气的混合气体为原料制备金刚石膜，并结合拉曼光谱、扫描电子显微镜、顺磁共振谱等测试手段及光热偏转方法对影响金刚石膜热导率的因素作了实验...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 对通过Ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺制备的ＰｂＴｉＯ３薄膜在Ａｒ＾＋溅射前后作了ＸＰＳ全扫描和窄扫描测量，结果表明，除了薄膜原始表面有化学吸附氧和污染碳外，薄膜中没有残余的单质碳或其他杂质元素存在，薄膜...
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刊名： 薄膜科学与技术发表期刊： 1995年1期页码:摘要： 采用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和扫描俄歇微探针（ＳＡＭ）技术，对氧化铝基底上用磁控溅射法沉积的Ａｕ／ＮｉＣｒ薄膜系统分别经３５０℃，２０ｍｉｎ真空和大气环境下热处理后样品表面状态的变化进行了研...
薄膜科学与技术基本信息
| 刊名 | 薄膜科学与技术 | 主编 | |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 南京电子器件研究所 | 主管单位 | |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 | |
| ISSN | CN | ||
| 邮编 | 210016 | 电子邮箱 | |
| 电话 | 网址 | ||
| 地址 | 南京1601信箱43分箱 |
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