微纳电子技术期刊
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微纳电子技术

Micronanoelectronic Technology
曾用名: 半导体情报(1964-2001)

AJSACSTPCD

影响因子 0.4364
《微电子技术》以促进我国纳米电子技术不断发展为办刊目的。 创刊4年以来,汇集了纳米电子、机械、材料、制造、测量以及物理、化学和生物等不同学科新生长出来的微小和微观领域的科学技术群体,通过报道国内外纳米电子技术方面的研究论文和综述动态,为纳米研究领域的技术人员提供纳米技术领域新的突破方法和新的研究方向,为纳米技术领域中从事原始创新和基础探索的科研工作者、大学教师和学生提供了一个纳米电子技术成... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
俄罗斯《AJ》收录  美国《剑桥科学文摘》收录  英国《SA》,INSPEC数据库收录 
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄市179信箱46分箱
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  • 作者: 姚飞 成步文 王启明 薛春来
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  14-21
    摘要: 回顾了Si1-xGex/Si HBT在几十年中的重要进展以及目前的研究现状.通过不同材料器件的对比表明,Si1-xGex/Si HBT在高频功率应用方面存在着巨大的优势,并将在未来无线通信和...
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  21
    摘要:
  • 作者: 刘静 吕永钢
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  22-28
    摘要: 介绍了磁性微/纳米颗粒在肿瘤靶向热疗中的应用开发现状,展望了其发展前景.重点总结了不同尺度和种类磁性微/纳米颗粒的作用机理、制作方法和特点以及临床治疗效果.
  • 作者: 周少波 易新建 熊韬 王双保 陈四海
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  29-31,36
    摘要: 采用离子束溅射和退火工艺制备了一种新的相变型薄膜VO2.此种薄膜的方块电阻为120~148 kΩ,电阻-温度关系曲线显示该薄膜的相变温度接近室温.SEM分析表明,所制备的薄膜致密均匀.样品的...
  • 作者: 张万里 彭斌 蒋洪川 谌贵辉
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  32-36
    摘要: MEMS技术在未来的发展中有着重要的意义.本文介绍了MEMS微致动器和各类驱动模式的优缺点,并以微泵为例,详细比较了致动器的执行机制和原理.
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  36
    摘要:
  • 作者: 孙建海 崔大付 王海宁 苏波
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  37-40,48
    摘要: 根据国内外发展的经验,从绝缘介质膜的制备、微桥膜内的残余应力到微桥膜的弹性系数这些影响驱动电压的关键因素出发,提出了一些新的微加工工艺和设计方法,为设计性能优良的RF-MEMS开关提供一种有...
  • 作者: 康西巧 石建平 罗先刚 陈旭南
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  41-43
    摘要: 在阐述投影成像光刻光瞳滤波技术原理与滤波器设计的基础上,详细分析研究了滤波成像光刻图形质量影响因素.指出影响图形质量的因素除了滤波器设计本身存在误差,主要还存在滤波器的制作误差、滤波器在成像...
  • 作者: 侯国宪 李惠军 赵国庆
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  44-48
    摘要: 介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Taurus Workbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级n沟器件的核心参数优化.优化结果印证了新的...
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年9期
    页码:  48
    摘要:
  • 作者: 刘忠范 陈芳 高宏军
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  1-9,23
    摘要: 纳米压印刻蚀技术是通过压模的方法实现纳米结构批量复制的.这一技术具有高分辨、高效率和低成本的优点.它与现行的光学刻蚀技术流程相似,具有较好的兼容性与继承性.详细介绍了热压印刻蚀技术的核心工艺...
  • 作者: 李建华 闫卫平 黄俊煌
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  10-14
    摘要: 采用小波消噪方法对芯片毛细管电泳信号进行了处理,研究了小波基的选择,噪音在不同细节中的特征以及噪音阈值的确定.结果显示,与Fourier消噪算法相比,运用小波消噪算法不仅能够更有效地消除噪声...
  • 作者: 刘宏伟 李晓云 牛萍娟 郭维廉
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  15-17,28
    摘要: 使用SILVACO公司的器件模拟软件ATLAS对AlGaAs/GaAs共振隧穿二极管(RTD)进行了器件模拟,得到了不同结构的RTD的I-V特性曲线.对量子阱宽度、掺杂浓度、势垒宽度和高度对...
  • 作者: 倪中华 王跃轩 顾兴中
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  18-23
    摘要: 自装配技术在物理、生物化学、MEMS以及纳米制造等领域得到了广泛应用,对该领域的研究显示出重要的应用前景和重大的理论价值,成为一个充满生机活力的热点.本文在阐述微器件自装配领域研究成果的基础...
  • 作者: 刘之景 张瑛
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  24-28
    摘要: 纳米自组装技术的突出优点是:通过改变相应模板的形状和大小可以实现对不同材料形状、结构和大小的预先控制,从而拓展了它的应用范围.本文主要阐述了纳米多孔材料模板自组装技术的原理和工艺流程,介绍了...
  • 作者: 刘肃 李伟华 陈新安 黄庆安
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  29-33,43
    摘要: 硅/硅直接键合技术广泛应用于SOI,MEMS和电力电子器件等领域,键合应力对键合的成功和器件的性能产生很大的影响.键合过程引入的应力主要是室温下两硅片面贴合时表面的起伏引起的弹性应力;高温退...
  • 作者: 万江文 凌坚
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  34-37
    摘要: 对静电驱动一维MEMS微镜中的静电弹性耦合问题进行了研究,分析了电极板的偏转变形与静电力的相互影响.为低品质因数的一维微镜系统建立了动态和静态模型,动态模型为一维扩散方程,静态模型由二阶微分...
  • 作者: 史俊锋 张光国 王东生
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  38-43
    摘要: 使用传统的微加工技术,如各向异性或各向同性干刻蚀、湿刻蚀只能加工有限形貌的表面,为了克服这一缺点,发展了多层掩模技术、激光三维立体光刻、电子束直接写入技术等许多三维微加工技术.灰度光刻最被看...
  • 作者: 吴岚军 王珺 郭少朋 闫献勇
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  44-46
    摘要: 概述了应用于微量液体操作的微流体器件、微流体器件的主要材料和制造.并分别说明各微流体器件(集流腔、微泵、微吸液器等)的主要结构和在微量液体操作中的功用.
  • 作者:
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年10期
    页码:  47-48
    摘要:
  • 作者: 李效白
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  1-6
    摘要: 扼要地叙述了宽禁带半导体SiC和GaN电子材料和器件的发展状况,介绍了SiC多形体、AlGaN/GaN异质结极化效应、GaN器件的电流塌陷效应和陷阱效应、SiC和GaN器件的特征工艺问题(离...
  • 作者: 夏之宁 辛龙涛 陈华
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  7-11
    摘要: 微流控分析芯片制作方法的研究是微流控分析的基础.制作性能良好的微流控分析芯片时,基片与盖片的键合技术十分重要.本文针对近年来发展迅速的低温键合技术,对各种方法进行了评价,并对其发展前景进行了...
  • 作者: 刘宏伟 牛萍娟 郭维廉
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  12-16
    摘要: 由共振隧穿二极管(RTD)和高电子迁移率晶体管(HEMT)构成的多值逻辑(MVL)电路可以用最少的器件来完成一定的逻辑功能,达到大大简化电路的目的.共振隧穿二极管和高电子迁移率晶体管属于量子...
  • 作者: 刘辉 朱梅英 魏雨
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  17-23,38
    摘要: 根据国内外研究者的报道及作者近几年来对纳米金属氧化物的制备研究结果,介绍了纳米金属氧化物液相法制备中常用的方法及表征手段,并探讨了纳米粉体制备过程中的团聚和反团聚措施.
  • 作者: 修向前 张荣 施毅 谢自力 郑有炓 陈晓清 韩平 顾书林
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  24-27
    摘要: 利用溶胶-凝胶法在硅衬底上制备了纳米ZnO薄膜.研究了热处理对ZnO薄膜的质量与发光性能的影响.结果表明,纳米ZnO薄膜具有六方纤锌矿结构,并且,随着退火温度的升高,ZnO的晶粒变大,c轴取...
  • 作者: 万江文 岳宁煜
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  28-31,38
    摘要: 对MOEMS静电旋转结构的Pull-in(吸合)现象进行了理论分析,重点研究了平板电极旋转结构和摆动梳齿旋转结构.摆动梳齿旋转结构不出现Pull-in现象的原因是电容变化率为恒值;平板电极旋...
  • 作者: 卢文娟 孔祥东 宋会英 张玉林
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  32-38
    摘要: 详细阐述了硅微加工工艺以及近几年内国际上开发的一些新的加工技术,如3D电化学微加工、EFAB工艺等,并提出了目前这些方法中存在的缺陷.
  • 作者: 刘沁 匡石 孙海玮 张治国 李颖 林洪 祝永峰 褚斌 陈信琦
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  39-42
    摘要: 研制的硅电容压力传感器芯体采用微机械加工技术,加工精度高,易于批量化生产.结构上采用对称的差动电容形式,并将其封装在专用基座中,适用于中、微压力的高精度测量,可用于目前通用压力传感器的升级产...
  • 作者: 曹庄琪 粟鹏义 陈开盛
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  43-45
    摘要: 采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理.将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换.该模型已应用于光刻...
  • 作者: 吴龙海
    刊名: 微纳电子技术
    发表期刊: 2004年11期
    页码:  46-48
    摘要: 综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157 nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行探讨.

微纳电子技术基本信息

刊名 微纳电子技术 主编 李和委
曾用名 半导体情报(1964-2001)
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1671-4776 CN 13-1314/TN
邮编 050002 电子邮箱 wndz@vip.sina.com
电话 0311-87091487 网址 www.wndz.org
地址 石家庄市179信箱46分箱

微纳电子技术评价信息

期刊荣誉
1. 俄罗斯《AJ》收录
2. 美国《剑桥科学文摘》收录
3. 英国《SA》,INSPEC数据库收录

微纳电子技术统计分析

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