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真空科学与技术学报2007年出版文献
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
真空科学与技术学报
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本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
出版文献量（篇）
4084
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19905
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 透明尖晶石陶瓷面板投影管的屏和锥采用了低熔点玻璃封接.给出了封接结构、所用屏、低熔点玻璃和锥的材料特性.分析了封接中材料匹配、浸润性以及再结晶等原理,叙述了封接工艺.检测证实,获得了性能良好...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 结合微光管研制,对大面积GaAs与玻璃粘接制备的透射式光电阴极的光谱特性进行在线测试,并对测试结果进行了分析讨论.依据光谱特性的变化,分析了影响阴极发射性能的根源.当激活工艺稳定状态下,光谱...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 在卷心菜真空冷却实验中,真空度是影响冷却时间和效果的主要因素.本文通过设定不同的自动补气阀工作压力范围来控制真空室的压力,进行卷心菜真空冷却实验,并分析了此过程中水分在低压下的气化过程.实验...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 使用感应耦合等离子体技术,通过改变源气体流量比R(R=[C4F8]/{[C4F8]+[Ar]})、射频源功率、自偏压等条件进行了SiO2介质刻蚀实验研究.碳氟等离子体的特征由朗谬探针和发射光...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 采用磁控溅射制备了Si基(Pb1-xSrx)TiO3(简称PST/Si)薄膜.测试表明,热处理工艺对PST/Si薄膜介电特性有着一定的影响,适当温度、适当时间的热处理可得到均匀致密的膜层及生...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜.这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构.薄膜表面出现不规则起伏.薄膜的晶相主体均为锐钛矿型.TiO2薄膜的光透射谱变化不大.这种TiO2薄...
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37. 铝膜反射镜空间环境适应性研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 铝膜反射镜是反射式空间聚光太阳电池阵的重要组成部分.通过对铝膜反射镜电子、质子、紫外、原子氧环境等一系列辐照及环境试验,研究和考察了铝膜反射镜反射率的变化和空间环境适应性.研究结果表明,铝膜...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜.通过改变氮气和氩气分压比(PN/PAr)和基体偏压,制备出不同结构、性能的氮化钛薄膜.采用X射线衍射技术、原子力显微镜、...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 在圆形硅基底上采用电子束加热蒸发制备了二氧化钛薄膜.薄膜应力测试结果表明,二氧化钛薄膜的内应力分布是不均匀的;二氧化钛薄膜的内应力集中主要出现在薄膜的边缘区域,有正应力的集中也有负应力的集中...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年2期页码:摘要： 利用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和相应选区电子衍射(SAED)等测试手段,对阳极弧放电等离子体技术制备的不同晶粒尺寸的纳米镍粉体的晶体结构、晶格参数、形貌、粒度进行性能表征...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 应用非晶的Ti-Al薄膜作为导电阻挡层,通过溶胶-凝胶法和磁控溅射法成功地在Si基片上制备了La0.5Sr0.5CoO3/Pb(Nb0.02Zr0.39Ti0.59)O3/La0.5Sr0....
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 随着高能量大功率激光器的发展和激光元件的广泛应用,用于红外窗口表面增透保护的类金刚石薄膜(DLC)的抗激光损伤特性成为评价薄膜质量优劣的一个重要指标.然而,不同的制备方法和技术沉积的DLC薄...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 为了提高高温合金母合金锭的内在质量,本文提出了高温合金的真空电磁铸造技术,并建立了表示高温合金真空电磁铸造凝固过程中液态金属补缩能力的数学模型.利用该模型比较了K417高温合金真空电磁铸造和...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 从双断口真空开关的等值模型出发,分析了双断口真空开关的动态介质恢复过程,说明只要恢复电压的峰值和上升速度低于某一极限值,整个双断口真空开关并不会因为一个灭弧室发生重击穿而导致开断失败.这是因...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 用直流磁控溅射法制备了氧铟锡(ITO)薄膜.采用XRD、TEM、XPS对薄膜的微结构和化学组分进行了测试分析.分析结果表明:制备的薄膜中,Sn元素已固溶到In2O3晶格形成了多晶ITO.延长...
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46. 本征纳米硅薄膜的微结构表征刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 采用PECVD技术,在玻璃衬底上低温沉积了优质本征纳米硅薄膜,并利用Raman光谱对其微结构作了表征.研究结果表明,硅烷浓度、衬底温度Ts对表征纳米硅薄膜微结构的晶化率和平均晶粒尺寸参数影响...
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47. 低压甲烷等离子体发射光谱诊断刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 在CH4/He体系下,利用光学发射谱技术,对螺旋波放电产生低压甲烷等离子体内活性粒子的光学发射特征进行了原位测量.根据甲烷离解后产生的所有可能基、团的对称性、构造并分析了甲烷离解的所有可能反...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 本文使用ANSYS软件的热分析模块研究阴极热子组件温度分布,发现氧化铝粉与阴极、支撑筒之间的接触热阻是引起热子温度大幅提升的主要因素,模型计算结果与实验测量结果比较吻合.优化接触面传热性能是...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 基于电泳和半导体工艺,制备了图形化的碳纳米管场发射阴极.用较高的电场激活碳纳米管薄膜,使得碳纳米管的场发射特性有了很大的改善,讨论了这一激活过程的物理机制.研究表明,这一激活过程可能的物理机...
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50. 干法刻蚀制作场发射阴极阵列刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 利用离子束刻蚀(IBE)和反应离子刻蚀(RIE)等于法刻蚀方法来制造带栅极的场发射阴极阵列.本文描述了其制作的流程工艺,并对制作中的一些关键问题和技术进行了讨论.采用SF6作为反应气体的RI...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 进行单晶基片和分子束外延(MBE)片两种GaAs(100)光电阴极材料高、低温激活实验,高温处理温度为600℃,低温处理温度分别为580℃、450℃和410℃,阴极每次激活后都利用多信息量测...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 本文系统地阐述了均匀场聚焦带状电子注的传输理论,设计了柱面阴极皮尔斯电子枪,模拟显示轨迹的层流性较好;设计了产生均匀磁场的磁聚焦结构,在1 m长的距离内,成功地实现了X波段100 MW带状电...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 为提高光电极值法膜厚监控质量,对微弱光电探测信号设计一套优化的电路处理和数字处理系统.基于双光束镀膜监控思想,提出三级模拟放大电路、双锁相对称放大电路、综合抗干扰技术、数字除法、防脉冲干扰数...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 以CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,并进行了退火处理.红外分析表明,F-DLC薄膜中主要有C-Fx(x=1,2,3...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 分别采用O+和Ar+离子束轰击的动态离子束混合技术,在不锈钢基体上制备钛的氧化物薄膜.经X射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)分析,研究这两种工艺制备薄膜的化学组成和价键状态.结...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 用马来酸酐乙醇溶液为单体,采用脉冲介质阻挡放电(DBD)合成聚马来酸酐薄膜,研究了放电的不同频率,聚合的区域对聚合薄膜性能的影响.通过对薄膜性能的表征:接触角、红外光谱、表面形貌、薄膜厚度,...
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57. 射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术高速沉积微晶硅薄膜.系统研究了射频功率、气体总流量、沉积气压、硅烷浓度等沉积参数对薄膜沉积速率和晶化率的影响.通过沉积参数的优化,...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 采用射频磁控溅射法,在室温和不同功率条件下,在soda-lime玻璃衬底上成功制备出TiO2薄膜.运用X射线衍射(XRD)仪、能谱仪、拉曼(Raman)光谱仪、PL光谱、紫外-可见(UV-V...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 采用直流磁控溅射在钢基体上制备了钽薄膜,研究了溅射气压和电流对钽膜相结构、表面形貌、硬度以及耐磨性的影响.XRD结果表明:钽膜主要由α(体心立方结构)+β(四方体结构)混合相组成,在合适的实...
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60. 磁控溅射法制备电磁屏蔽织物的研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2007年3期页码:摘要： 本文采用直流磁控溅射在无纺布基底上溅射沉积金属铜来制备电磁屏蔽织物.通过原子力显微镜观察发现,工艺参数对溅射沉积速率以及膜层的表面形貌都有较大的影响.在一定范围内,溅射功率越大,沉积速率越大...
真空科学与技术学报基本信息
| 刊名 | 真空科学与技术学报 | 主编 | 吴锦雷 |
| 曾用名 | 真空科学与技术 | ||
| 主办单位 | 中国真空学会 | 主管单位 | 中国科学技术协会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1672-7126 | CN | 11-5177/TB |
| 邮编 | 100022 | 电子邮箱 | vst@chinesevacuum.com |
| 电话 | 010-58206280 | 网址 | |
| 地址 | 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室 |
真空科学与技术学报评价信息
该刊被以下数据库收录
| 1. | 化学文摘(美) |
| 2. | 中国科学引文数据库 |
| 3. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 4. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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