真空科学与技术学报期刊
出版文献量(篇)
4084
总下载数(次)
3
总被引数(次)
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名: 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊,长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录,已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅,有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿,已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位:
中国真空学会
ISSN:
1672-7126
CN:
11-5177/TB
出版周期:
月刊
邮编:
100022
地址:
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
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  • 作者: 乔建良 常本康 杨智 牛军 邹继军
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  115-118
    摘要: 本文结合激活过程中光电流变化规律和成功激活后阴极表面模型,研究了NEA CaN和GaAs光电阴极激活机理的异同.实验表明:NEA CaN激活过程中光电流不象GaAs那样按近似指数规律的包络慢...
  • 作者: 张溪文 李喆 韩高荣
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  119-124
    摘要: 本文通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积p型纳米非晶硅薄膜(na-si:H),系统地研究了掺杂气体比(B2H6/SIH4)、沉积温度、射频电源功率对薄膜结构、光学、电学性能的影响...
  • 作者: 叶位彬 戴晋福 朱建明 申灿 马国欣 黄光周
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  125-129
    摘要: 通过对原子层沉积过程的计算机仿真,分析不同沉积条件对沉积过程的影响.以H-Si(100)表面原子层沉积Al2O3的过程为基础,通过分析基片上不同表面功能团之间的相互作用,将整个沉积过程分为初...
  • 作者: 卢建丽 李健 杨晶 白海平
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  130-134
    摘要: 采用真空热蒸发法在玻璃衬底上制备Sn2S3薄膜.研究不同Sn和s配比及热处理条件对薄膜的结构及光学特性的影响.结果显示:采用Sn:S为1:1.2(at%)混合粉末制备出的薄膜,在T=430℃...
  • 作者: 肖红 蒋春丽 陆雷 鲜晓斌
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  135-138
    摘要: 在俄歇电子能谱仪超高真空室内,采用离子束溅射沉积方法在多晶cu上沉积了铀薄膜,采用俄歇电子能谱技术(AES)研究铀薄膜的生长方式,铀、铜的相互作用及退火引起u膜成分结构变化.沉积初期观察到铀...
  • 作者: 亓丽梅 兰峰 史宗君 杨梓强 梁正 高喜
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  139-143
    摘要: 本文研究了由金属光子带隙结构以及金属膜片构建的Ka波段慢波结构的色散特性、工作模式的电场及耦合阻抗.结果表明,采用PBG缺陷结构的平均半径作为封闭边界代替PBG慢波结构的开放边界,从而由色散...
  • 作者: 吴芳 彭丽萍 方亮 黄秋柳
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  144-149
    摘要: P型透明导电氧化物CuAlO2具有超晶格层状结构,显示出非常好的热电性能,在热电转换领域可望有广阔的应用前景.本文简要介绍了CuAlO2的结构和能带特点,从制备过程、微观结构、退火条件和掺杂...
  • 作者: 吴燕翔 孙海燕 寇得民 李晓斌
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  150-154
    摘要: 真空钎焊炉中温度的精确控制是一个多变量控制问题,为实现钎焊温度的精确控制,以真空钎焊现场实际采集的数据为基础,辨识出真空钎焊炉温区温度一阶模型,提出一阶滞后系统的多变量预测函数解耦控制算法,...
  • 作者: 卢意飞 吴嘉达 孙剑 施立群 许宁 高昆
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  155-159
    摘要: 利用基于双激光束双靶共烧蚀的等离子体辅助脉冲激光沉积的化合物薄膜沉积和原位掺杂方法,制备了稀土Er掺杂和Pr掺杂的GaN薄膜.基质膜层中的Ga和N化合成键形成GaN,其组织结构为六角CaN相...
  • 作者: 尉秀英 杜军 熊玉华 秦光荣 褚永俊
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  160-163
    摘要: 本文用x射线光电子能谱仪(XPS)对TiZrV合金吸气剂的激活过程进行了监测,研究了吸气剂表面Ti、Zr、V、 O、 C元素的化学价态随温度的变化.实验结果表明:暴露过大气的TiZrV吸气剂...
  • 作者: 刘宏开 王多书 罗崇泰 陈焘
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  164-167
    摘要: 在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜.通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律.结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm·s-1时,二氧化钛薄膜...
  • 作者: 乌晓燕 李广泽 李戈扬 陈扬辉
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  168-172
    摘要: 在Ar、C2H2混合气氛中通过反应磁控溅射法制备了一系列不同碳含量的碳化钒薄膜,利用EDX、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能.研究了C2H2分压对薄膜成分、相组...
  • 作者: 何俊鹏 刘旭 沈伟东 章岳光 顾培夫
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  173-179
    摘要: 回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫...
  • 作者: 孙兆奇 曹春斌 郭守月
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  180-183
    摘要: 用直流磁控溅射法在普通载波片上制备了厚度130hm左右的ITO薄膜,分别在100、200、300和400℃下退火lho测量了退火前后几个样品的XRD和透射率,利用椭偏解谱方法对几个样品的透射...
  • 作者: 刘正义 曾德长 瞿全炎 邱万奇
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  184-187
    摘要: 用划痕实验探索了综合表征膜基结合力的方法.在瑞士CSM仪器的微划痕测试仪(Micro-Scratch Tester,MST划痕仪)对真空多弧离子镀设备制备的WC-Co/TiN膜基结合力进行划...
  • 作者: 丁建宁 何字亮 潘海彬 王君雄 王秀琴 祁宏山 程广贵 范真 袁宁一
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  188-193
    摘要: 采用射频和直流偏压(RF+DC)双重激励源,在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中成功制备了掺硼纳米硅薄膜.改变衬底温度、射频功率和退火温度几个关键工艺参数,利用拉曼(Raman)谱...
  • 作者: 梁红樱 沈保罗 王辉 赵海波 黄林君
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  194-197
    摘要: 本文通过改变硅靶电流的方法,用自制的磁控溅射设备在硬质合金刀片上制备了Ti-Si-N薄膜.用x射线衍射研究了Ti-Si-N薄膜的结构和织构变化,用XPS分析了薄膜的相组成,用显微硬度计测定了...
  • 作者: 王厚银 王小明 窦仁超 胡建生 陈长琦 龚先祖
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  198-203
    摘要: 全超导托卡马克(EAST)实验中,面向等离子体材料(PFM)的放气特性直接影响到等离子体的品质.因此采用动态流导法的实验装置,在不同温度和真空度下对表面镀有SiC薄膜的GBST1308(B ...
  • 作者: 唐康淞 李实 赵刚 阴和俊
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  204-208
    摘要: 非线性失真是空间行波管最重要的性能指标之一.本文研究了双渐变螺旋线慢波结构各个参量,如长度以及螺距对行波管非线性失真的影响,确定了对不同非线性失真影响最大的结构参量,分析了非线性失真产生的根...
  • 作者: 李月霞 蔡小平 赵培 黄佳木
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  209-212
    摘要: 采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备v掺杂非晶态TiO2薄膜,研究了射频掺杂功率、基片温度以及薄膜厚度等因素对薄膜光催化性能的影响.x射线衍射(XRD)及x光电子能谱(XPs)分析表明:薄膜为...
  • 作者: 刁训刚 孟超 曹晔 陈将乐 顾宝霞
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  213-217
    摘要: 采用多弧离子镀在聚酰亚胺(PI)基底上制备了TnO2/TiN低红外发射率迷彩薄膜,通过控制溅射的时间,使制备出的薄膜在可见波段具有各种丰富的颜色效果,使其具有迷彩特性,通过制备工艺的优化使其...
  • 作者: 梁平治 程正喜 陈世军 马斌
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  218-223
    摘要: 本文描述了一种与CMOS工艺完全兼容的热电堆微型热传导真空传感器.该传感器可在商业化的标准CMOS生产流水线上进行流片,配合后续的无掩模体硅各向异性腐蚀工艺,即可完成全部制造程序.器件敏感部...
  • 作者:
    发表期刊: 2009年2期
    页码:  224
    摘要:

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
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真空科学与技术学报统计分析

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