铜上溅射沉积铀薄膜AES研究

• 作者: 肖红 蒋春丽 陆雷 鲜晓斌
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: 铀薄膜 铜 俄歇电子能谱
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 135-138
• 页数: 4页
• 分类号: O657.62
• 字数: 2287字
• 语种: 中文

摘要

在俄歇电子能谱仪超高真空室内,采用离子束溅射沉积方法在多晶cu上沉积了铀薄膜,采用俄歇电子能谱技术(AES)研究铀薄膜的生长方式,铀、铜的相互作用及退火引起u膜成分结构变化.沉积初期观察到铀与铜发生相互作用,随着铀薄膜厚度的增加,UOPV/CuLMM俄歇跃迁峰强度值变化说明铀薄膜为层状+岛状生长.退火促进了界面扩散,随着温度的升高,铀与铜发生了相互作用和扩散,温度继续升高,铀与碳形成了铀碳化物.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋春丽		10	23	3.0	4.0
2	鲜晓斌		5	17	3.0	4.0
3	肖红		5	5	1.0	1.0
4	陆雷		5	10	2.0	2.0