原子层沉积技术及其在光学薄膜中的应用

• 作者: 何俊鹏 刘旭 沈伟东 章岳光 顾培夫
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积 光学薄膜 前驱体 光子晶体
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 综述评论
• 页码范围: 173-179
• 页数: 7页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1910字
• 语种: 中文

摘要

回顾了原子层沉积(ALD)技术的发展背景,通过分析ALD的基本工艺,并与传统薄膜制备工艺进行了对比研究.介绍了它在膜层的均匀性、保形性以及膜厚控制能力等方面的优势.着重列举ALD在减反膜、紫外截止膜、折射率可调的薄膜、抗激光损伤薄膜及复杂结构光子晶体等方面的应用.同时指出了目前ALD工艺在光学薄膜应用中存在的主要问题,并对ALD未来的发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈伟东	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	39	296	8.0	16.0
2	顾培夫	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	141	1761	23.0	34.0
3	刘旭	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	214	1718	22.0	32.0
4	章岳光	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	40	424	12.0	20.0
5	何俊鹏	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	2	29	1.0	2.0