作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
推荐文章
配电自动化实用化关键技术及其进展
配电自动化
应用现状
关键技术
发展趋势
反应离子刻蚀的模型及仿真
反应离子刻蚀(RIE)
二维模型
线算法和元胞算法的混合算法
计算机仿真
电力调度自动化系统实用化应用
电力调度自动化
实用化应用
主站
分站
可靠性
扩展应用
硅的反应离子刻蚀实验研究
反应离子刻蚀
刻蚀速率
选择比
均匀性
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 微小电极孔反应离子刻蚀实用化技术
来源期刊 江南半导体通讯 学科 工学
关键词 集成电路 离子刻蚀 VLSI 芯片
年,卷(期) 1992,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 27-31
页数 5页 分类号 TN470.598
字数 语种 中文
DOI
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1992(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
集成电路
离子刻蚀
VLSI
芯片
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
江南半导体通讯
双月刊
江苏省无锡市105信箱微电子技术编辑部
出版文献量(篇)
141
总下载数(次)
1
论文1v1指导