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摘要:
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氮化硼薄膜
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磁控溅射
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 硅场发射阵列的制造和特性
来源期刊 上海半导体 学科 工学
关键词 冷阴极器件 场发射 制造
年,卷(期) 1993,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 14-17
页数 4页 分类号 TN132
字数 语种
DOI
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1993(0)
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研究主题发展历程
节点文献
冷阴极器件
场发射
制造
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海微电子技术和应用
季刊
1006-9453
31-1239/TN
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
出版文献量(篇)
435
总下载数(次)
3
总被引数(次)
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