作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
推荐文章
沉积参数对磁控溅射CrNX膜结构和性能的影响
直流磁控溅射
CrNX膜
沉积参数
结构与性能
磁控溅射C靶电流对Cr/C和Cr/C/N复合镀层组织和性能的影响
磁控溅射
C靶电流
Cr/C镀层
Cr/C/N镀层
性能
磁控溅射制备金属铀膜
金属铀膜
磁控溅射
表面粗糙度
磁控溅射制备纳米厚度连续金膜
磁控溅射
表面粗糙度
纳米Au膜
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 沉积参数对磁控溅射Cr—N膜相结构的影响
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 Cr-N薄膜 相结构 磁控溅射
年,卷(期) 1994,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 24-33
页数 10页 分类号 TN304.205
字数 语种
DOI
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1994(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
Cr-N薄膜
相结构
磁控溅射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
总下载数(次)
1
总被引数(次)
0
论文1v1指导