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生长温度和退火气氛对ZnO:Al薄膜结构与性能的影响
ZnO
Al薄膜
生长温度
退火气氛
光学性质
电学性质
退火温度对Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜微观结构影响研究
铁电薄膜
Bi4Ti3O12
微观结构
退火温度
退火对掺铟氧化锌薄膜结构及光学性能的影响
掺铟氧化锌
溶胶-凝胶法
半高宽
光学带隙
退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响
ESAVD
氧化钇薄膜
折射系数
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 退火温度对IBAD合成Co—Si化合物薄膜结构影响研究
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 离子束辅助淀积 Co-Si化合物 薄膜 退火
年,卷(期) 1994,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 151-154
页数 4页 分类号 TN304.205
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DOI
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1994(0)
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研究主题发展历程
节点文献
离子束辅助淀积
Co-Si化合物
薄膜
退火
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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1
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