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InP通路孔的RIE
InP通路孔的RIE
作者:
笑生
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集成电路
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等离子体应用技术快报
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工学
关键词
集成电路
磷化铟
通路孔
离子蚀刻
年,卷(期)
1995,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
6-7
页数
2页
分类号
TN405.982
字数
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等离子体应用技术快报
主办单位:
核工业西南物理研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
四川省成都市432信箱
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创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
864
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