白光快速退火注Si砷化镓的X—ray双晶衍射摇摆曲线分析

• 作者: 夏冠群 顾宏
• 来源期刊: 上海微电子技术和应用
• 学科: 工学
• 关键词: 硅 离子注入 砷化镓 白光快速退火
• 年，卷（期）: 1997,（2）
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.442

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏冠群	中国科学院上海冶金所	61	307	9.0	16.0
2	顾宏	中国科学院上海冶金所	1	0	0.0	0.0