Si/SiGe/Si-SOI异质结构的同步辐射双晶貌相术和高分辨三轴晶X射线衍射

• 作者: 刘安生 屠海令 胡广勇 邵贝羚 马通达
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 同步辐射双晶貌相术 高分辨三轴晶X射线衍射 衍射双峰
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1359-1363
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.054
• 字数: 2919字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.07.014

摘要

运用同步辐射双晶貌相术结合高分辨三轴晶X射线衍射对经原位低温热处理的Si/SiGe/Si-SOI异质结构进行研究,发现Si层(004)衍射峰两侧半高宽(FWHMs)处同步辐射双晶形貌像特征存在明显差异.对同步辐射双晶摇摆曲线中Si层(004)衍射峰的不对称性给予了解释,同时阐明了高分辨三轴晶X射线衍射2θ-ω扫描曲线中Si层(004)衍射双峰与Si层衍射结构的对应关系.