杂质对光学薄膜激光损伤阈值的影响

• 作者: 刘晔 胡海洋 范正修 范瑞瑛 赵强 黄日成
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 杂质 激光损伤阈值 二次离子质谱 光学薄膜
• 年，卷（期）: 1999,（6）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 489-492
• 分类号: TN2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.1999.06.003

摘要

通过对一系列1.06 μm HfO2/SiO2全反膜样品进行的激光损伤阈值测试,以及二次离子质谱杂质含量测定的结果进行的比较分析,提出了减小膜系制备过程中杂质污染是提高光学薄膜激光损伤阈值行之有效的途径.将理论分析运用于具体生产实践中,获得了令人满意的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范瑞瑛	中国科学院上海光机所	15	377	9.0	15.0
2	范正修	中国科学院上海光机所	203	2312	23.0	32.0
3	赵强	中国科学院上海光机所	78	651	14.0	21.0
4	胡海洋	中国科学院上海光机所	15	281	8.0	15.0
5	刘晔	中国科学院上海光机所	37	228	8.0	14.0
6	黄日成	中国科学院上海光机所	1	49	1.0	1.0