光斑尺寸对光学薄膜元件温升的影响

• 作者: 代福 熊胜明
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 重复频率激光 光斑 光学薄膜 温升 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1983-1986
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1558字
• 语种: 中文

摘要

实验测量了波长1 064 nm,10 kHz高重复频率激光辐照下在白宝石、石英玻璃、K9基片上制备的Ta2O5/SiO2高反膜的温度变化,有限元分析的结果与实验结果相一致.用ANSYS程序计算了不同光斑直径、相同功率激光和相同功率密度激光辐照下薄膜元件温升的变化.结果表明:相同功率激光辐照光学薄膜元件时,光斑大小只影响激光辐照点的温升,对基板温升没有影响.基板温升只与激光功率有关,激光功率越大,基板温升越大.相同功率密度激光辐照光学薄膜元件时,光斑越大,激光辐照点温度及基板温度均越高.从激光损伤的热效应考虑,小光斑激光辐照时,光学薄膜的激光损伤阈值较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊胜明	中国科学院光电技术研究所	44	353	11.0	16.0