金刚石薄膜的反应离子刻蚀

• 作者: 丁桂甫 姚翔 张寿柏 张志明 朱军 沈荷生
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子刻蚀 金刚石薄膜 刻蚀速率
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 离子刻蚀技术
• 页码范围: 23-28
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.055|TN305.7
• 字数: 2665字
• 语种: 中文

摘要

反应离子刻蚀是金刚石薄膜图形化的一种有效方法.研究了用O2及与Ar的混合气体进行金刚石薄膜图形化刻蚀的主要工艺参数(射频功率、工作气压、气体流量、反应气体成分与比例等)对刘蚀速率和刻蚀界面形貌的影响,兼顾刻蚀速率和刻蚀面平滑程度等关键因素,建立了金刚石薄膜刻蚀的优化工艺参数,达到了较满意的图形效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚翔	国家教育部薄膜与微细加工技术重点实验室上海交通大学微纳米技术研究院	9	81	4.0	9.0
2	沈荷生	国家教育部薄膜与微细加工技术重点实验室上海交通大学微纳米技术研究院	1	18	1.0	1.0
3	丁桂甫	国家教育部薄膜与微细加工技术重点实验室上海交通大学微纳米技术研究院	1	18	1.0	1.0
4	朱军	国家教育部薄膜与微细加工技术重点实验室上海交通大学微纳米技术研究院	1	18	1.0	1.0
5	张志明	国家教育部薄膜与微细加工技术重点实验室上海交通大学微纳米技术研究院	2	25	2.0	2.0