大规模集成电路用溅射靶

• 作者: 韩庆康
• 来源期刊: 上海钢研
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 信息
• 页码范围: 42-43
• 页数: 2页
• 语种: 中文

摘要

1、半导体LSI(大规模集成电路)元件是由薄膜构成的,薄膜技术在其中起着重要的作用.薄膜材料的来源是靶.随着LSI的高功能化和需求量扩大,迅速开发了多种多样的靶材料,而薄膜材料中要求的特性也必须和溅射工艺的各种要求相适应.