直流电弧等离子体喷射金刚石厚膜生长不稳定性问题

• 作者: 佟玉梅 吕反修 唐伟忠 宋建华 黄天斌
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 生长不稳定性 金刚石厚膜 化学气相沉积(CVD) 直流电弧等离子体喷射
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 表面技术
• 页码范围: 46-50
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 3376字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2001.01.010

摘要

采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性，并往往导致膜层组织疏松，强度降低。本文从理论和实验观察两个方面进行了讨论。生长不稳定性在任何高速沉积CVD过程中都可能发生，而直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度以及高温等离子体射流对衬底表面的冲击，使之比其它CVD金刚石膜沉积工艺具有更大的不稳定生长倾向。基于实验研究结果，建议在较低的气体压力下沉积，以减小金刚石厚膜生长的不稳定性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	唐伟忠	北京科技大学材料科学与工程学院	106	860	16.0	21.0
3	宋建华	北京科技大学材料科学与工程学院	29	265	11.0	14.0
4	佟玉梅	北京科技大学材料科学与工程学院	22	268	10.0	15.0
5	黄天斌	北京科技大学材料科学与工程学院	5	45	3.0	5.0