用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜

• 作者: 丁训民 凌浩 吴嘉达 孙剑 应质峰 施维 李富铭 王康林
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 氮化铝 激光烧蚀
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 页码范围: 272-274
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1971字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2001.03.020

摘要

介绍了用脉冲激光沉积(PLD)方法制备AlN薄膜的工作，在Si(100)衬底上得到了光滑平整、透明度高的AlN薄膜，由实验结果拟合得到能隙宽度为5.7eV。考察了衬底温度和退火温度的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙剑	复旦大学三束材料改性国家重点实验室	3	37	3.0	3.0
2	吴嘉达	复旦大学三束材料改性国家重点实验室	7	68	4.0	7.0
3	丁训民	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	14	97	5.0	9.0
4	李富铭	复旦大学三束材料改性国家重点实验室	22	128	7.0	10.0
5	凌浩	复旦大学三束材料改性国家重点实验室	3	32	2.0	3.0
6	施维	复旦大学三束材料改性国家重点实验室	1	25	1.0	1.0
7	应质峰	复旦大学三束材料改性国家重点实验室	3	41	3.0	3.0
8	王康林	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	2	25	1.0	2.0