碲镉汞衬底上沉积类金刚石薄膜的界面分析

• 作者: 吴汶海 夏义本 居建华 桑文斌 汤定元 王林军
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石 薄膜 红外 界面
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 238-240
• 页数: 3页
• 分类号: TN2
• 字数: 1800字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2002.03.018

摘要

采用等离子增强化学气相法(PECVD)在碲镉汞(MCT)衬底上沉积纳米颗粒的类金刚石薄膜(DLC),对DLC/MCT界面进行了俄歇电子能谱(AES)分析,并与离子溅射法(IS)沉积的ZnS/MCT界面比较,结果表明DLC和ZnS薄膜都能较好地抑制MCT中HgTe的分解,在一定程度上阻挡了MCT中Hg的外扩散.相对于ZnS中的S而言,DLC的C在MCT中的内扩散深度较小(前者为400,而后者仅为200).红外透射光谱结果表明DLC膜比ZnS膜具有更好的抗反射效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	桑文斌	上海大学材料科学与工程学院	53	535	15.0	20.0
2	夏义本	上海大学材料科学与工程学院	111	725	13.0	19.0
3	王林军	上海大学材料科学与工程学院	109	441	11.0	14.0
4	居建华	上海大学材料科学与工程学院	28	114	7.0	9.0
6	汤定元	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家开放实验室	16	70	4.0	7.0
7	吴汶海	上海大学材料科学与工程学院	4	5	1.0	1.0