磁控溅射防锈MoS2薄膜沉积工艺研究

• 作者: 万志华 白芝芳 郭等柱 陈焘
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 MoS2薄膜 沉积工艺
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 知识与进展
• 页码范围: 241-245
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4023字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2002.04.012

摘要

介绍了磁控溅射制备防锈MoS2薄膜的沉积工艺,同时对影响膜层性能的几个因素进行了初步的探讨,并且制备了防锈性能优良的MoS2薄膜样品.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万志华		10	46	5.0	6.0
2	陈焘		23	216	8.0	14.0
3	郭等柱		1	8	1.0	1.0
4	白芝芳		2	8	1.0	2.0