高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜研究进展

• 作者: 任飞飞 李垚 李龙 范青潽 谷金鑫 豆书亮 赵九蓬 魏航
• 来源期刊: 哈尔滨工程大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化钒 热致变色 透过光谱 相变特性 高能脉冲 磁控溅射 放电特性 沉积温度
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 页码范围: 219-226
• 页数: 8页
• 分类号: TB381
• 字数: 2855字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11990/jheu.201911016

摘要

高能脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术具有低占空比、低频率、高峰值功率密度、高溅射等离子体密度等特点,能够在高峰值功率下进行薄膜沉积,从而提高薄膜的沉积质量.将高能脉冲磁控溅射技术用于二氧化钒(VO2)薄膜的沉积,能够降低其制备温度,提高致密度.本文介绍了高能脉冲磁控溅射技术的特点,阐述了高能脉冲磁控溅射技术制备VO2热致变色材料的研究现状,最后总结了利用高能脉冲磁控溅射技术制备VO2薄膜的优势以及存在的问题并对其应用进行展望.