液态光致抗蚀剂浅析

• 作者: 张青 阙民辉
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 液态光致抗蚀剂 网印前处理 图形转移 退墨 蚀刻
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 所属期刊栏目: 图像转移
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: TN4
• 字数: 4602字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0096.2002.08.008

摘要

该文结合公司对多种国内、国外液态光致抗蚀剂(Liquid Photoresist)的试用和现在批量使用湿膜的实际生产情况中的经验,主要讨论了液态光致抗蚀剂在印制板生产中的运用.同时,介绍了液态光致抗蚀剂的优点和生产中应用注意事项.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张青		2	4	1.0	2.0
2	阙民辉		1	3	1.0	1.0