ITO靶材在磁控溅射过程中的毒化现象

• 作者: 孔伟华
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控反应溅射 ITO 毒化现象
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 1083-1088
• 页数: 6页
• 分类号: TF124
• 字数: 2980字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.05.031

摘要

研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔伟华	西北稀有金属材料研究院宁夏特种材料重点实验室	1	25	1.0	1.0