TiN/NbN纳米多层薄膜的交变应力场和超硬效应

• 作者: 宁兆元 戴嘉维 李戈扬 虞晓江 赖倩茜
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN/NbN超晶格薄膜 调制结构 超硬度 交变应力场
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 313-316
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3144字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.04.018

摘要

为了研究纳米多层薄膜的超硬效应,采用反应溅射法制备从1.4 nm至27 nm不同调制周期的一系列TiN/NbN纳米多层膜.高分辨电子显微镜对薄膜的调制结构和界面生长方式的观察发现,TiN/NbN膜具有很好的调制结构,并呈现以面心立方晶体结构穿过调制界面外延生长的多晶超晶格结构特征.显微硬度测量表明,TiN/NbN纳米多层膜存在随调制周期变化的超硬效应.薄膜在调制周期为8.3 nm时达到HK39.0 GPa的最高硬度.分析认为,两种不同晶格常数的晶体外延生长形成的交变应力场,对材料有强化作用,这是TiN/NbN纳米多层膜产生超硬效应的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	宁兆元	苏州大学薄膜材料重点实验室	70	528	12.0	18.0
4	戴嘉维	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	18	231	7.0	15.0
5	虞晓江	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	139	7.0	10.0
6	赖倩茜	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	128	7.0	10.0