0.5μm CMOS腐蚀工艺研究

• 作者: 刘丽艳 吴洪强 周彬 莫科伟
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: CMOS 腐蚀工艺 模块
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 技术论文
• 页码范围: 1-10
• 页数: 10页
• 分类号: TN405.98
• 字数: 3946字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2002.05.001

摘要

本文主要介绍了0.5μm CMOS工艺中一些腐蚀模块的工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	莫科伟	无锡微电子科研中心二室	3	0	0.0	0.0
2	刘丽艳	无锡微电子科研中心二室	2	0	0.0	0.0
3	吴洪强	无锡微电子科研中心二室	2	0	0.0	0.0
4	周彬	无锡微电子科研中心二室	2	0	0.0	0.0