热处理单晶硅片中Fe玷污的深能级瞬态谱分析

• 作者: 李新建 王文卫
• 来源期刊: 科学技术与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 热处理 Fe玷污 DLTS技术
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 264-268
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.12
• 字数: 4454字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1815.2003.03.023

摘要

应用深能级瞬态谱(DLTS)技术,对不同热处理条件下的单晶硅腐蚀片及抛光片进行了Fe玷污分析,系统研究了热处理前预清洗工艺和热处理工艺过程对硅片体内Fe玷污的影响.实验表明,热处理和热处理前预清洗是加工过程中对硅片体内Fe玷污有重大影响的工序,进而提出了有效降低硅片内Fe玷污的热处理控制方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李新建	郑州大学物理系和材料物理重点实验室	52	218	8.0	13.0
2	王文卫	郑州大学物理系和材料物理重点实验室	1	1	1.0	1.0