工艺参数对RF磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜特性的影响

• 作者: 张兴元 董建华 黄佳木
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO:Al薄膜 射频磁控溅射 结构 光电特性
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 174-177
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2077字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2003.02.006

摘要

ZnO:Al(ZAO)是一种N型半导体薄膜材料,具有优良的光电特性,如低的电阻率和高的可见光透过率.本文利用射频磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜,研究了工艺参数对其结构和光电特性的影响.结果表明原位制备的薄膜经热处理后具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.薄膜的最小电阻率和可见光透过率分别为8.7×10-4Ωcm和85%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料学院	84	690	13.0	20.0
2	董建华	重庆大学材料学院	4	79	4.0	4.0
3	张兴元	重庆大学材料学院	8	89	5.0	8.0