射频磁控溅射中离子输运的计算机模拟

• 作者: 刘正堂 李阳平 耿东生
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 计算机模拟 离子输运
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 199-202,207
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3327字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2003.03.012

摘要

采用射频辉光放电等离子体壳层模型和蒙特卡罗法,模拟了射频磁控溅射镀膜中工作气体离子(Ar+)的输运过程,得到了离子到达靶面时的入射能量、角度和位置.模拟结果:对靶材溅射的离子主要来自于溅射坑上方的等离子体区域,初始离子的位置分布可通过靶材溅射坑的形貌拟合得到;离子的能量主要集中在壳层电压附近,离子大多数以垂直入射.模拟与实际相符,可用作进一步模拟离子对靶材溅射时的输入参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李阳平	西北工业大学材料科学与工程系	25	201	8.0	13.0
2	刘正堂	西北工业大学材料科学与工程系	120	749	14.0	21.0
3	耿东生	西北工业大学材料科学与工程系	15	150	8.0	12.0